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微焦點(diǎn)測(cè)試儀

產(chǎn)品型號(hào)：NanoXSpot
更新時(shí)間：2026-03-04

簡(jiǎn)要描述：NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線(xiàn)管進(jìn)行質(zhì)量保證，根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

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產(chǎn)品詳情

品牌	德國(guó)Kowotest	產(chǎn)地	進(jìn)口

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀詳細(xì)介紹：

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線(xiàn)管進(jìn)行質(zhì)量保證，根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

歐洲計(jì)量創(chuàng)新與研究計(jì)劃項(xiàng)目開(kāi)發(fā)了新的 NanoXSpot (NxS) 測(cè)量?jī)x，具有線(xiàn)組、西門(mén)子星形和孔圖，用于測(cè)量小至 100 納米的聚焦光斑

計(jì)算機(jī)斷層掃描 (CT)可以根據(jù)從物體周?chē)煌嵌扰臄z的一系列 X 射線(xiàn)圖像重建物體的體積數(shù)據(jù)集，這項(xiàng)技術(shù)被廣泛用于醫(yī)學(xué)中的患者診斷。此外，它還被用于航空航天和電子等行業(yè)的無(wú)損檢測(cè)、缺陷與內(nèi)部結(jié)構(gòu)的評(píng)估以及產(chǎn)品尺寸的驗(yàn)證。這些行業(yè)對(duì)檢測(cè)分辨力的要求小至納米級(jí)。

隨著電子設(shè)備的小型化變得越來(lái)越普遍，以及隨著新技術(shù)（如電動(dòng)汽車(chē)）的出現(xiàn)和航空工業(yè)中輕質(zhì)化合物的使用，對(duì) 5微米或更小分辨力（大約人類(lèi)頭發(fā)絲寬度的 1/10）的 CT 測(cè)量的需求日益增加。X 射線(xiàn)管的光斑尺寸直接影響到測(cè)量分辨力。但是，對(duì)于5微米以下的 X 射線(xiàn)管光斑尺寸，標(biāo)準(zhǔn)或測(cè)量方法。X 射線(xiàn)設(shè)備制造商采用自有的測(cè)量方法導(dǎo)致了不一致的結(jié)果。因此，研究人員正在開(kāi)發(fā)基于可溯源表征的測(cè)量?jī)x來(lái)確定光斑大小、形狀和位置的新方法，并將作為這些光斑測(cè)量的標(biāo)準(zhǔn)引入。

歐洲計(jì)量創(chuàng)新與研究計(jì)劃（EMPIR）項(xiàng)目《對(duì)光斑小至100納米的 X 射線(xiàn)管焦斑尺寸的測(cè)量（NanoXSpot，18NRM07）》正在開(kāi)發(fā)新的標(biāo)準(zhǔn)實(shí)踐，以比目前更高的準(zhǔn)確度水平表征 X 射線(xiàn)焦斑。

X 射線(xiàn)管的質(zhì)量保證 – 光斑尺寸和形狀
一段時(shí)間后，可能會(huì)觀察到 X 射線(xiàn)管（尤其是納米和微焦管）目標(biāo)的燒毀使用量，這可能導(dǎo)致光斑尺寸增加。一些管制造商允許管目標(biāo)旋轉(zhuǎn)。這允許改變目標(biāo)上的焦點(diǎn)位置并提供不失真的焦點(diǎn)尺寸

NanoXSpot 測(cè)量?jī)x (NxS)

? 全新測(cè)量?jī)x設(shè)計(jì) NxS-1020 最終確定：

• 使用新開(kāi)發(fā)的算法進(jìn)行焦點(diǎn)測(cè)量和特性分析

• 全新焦點(diǎn) CT 重建算法

? 樣品支架設(shè)計(jì)便于測(cè)量?jī)x使用

? NxS 測(cè)量?jī)x上的圖案組（4 個(gè)象限）：

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 3-12 µm（Q1）

• 會(huì)聚線(xiàn)組圖案（Q2 和 Q3）（類(lèi)似于西門(mén)子星）

• 直徑為 5 µm 至 1 mm 的孔圖案（Q4）

重新設(shè)計(jì)的 NxS-1022b 儀表

? 樣品架設(shè)計(jì)便于使用儀表

? NxS 儀表上的圖案組（4 個(gè)象限）：

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 4-20 µm（Q1）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 63 µm（Q2）

• 直徑為 5 µm 至 1000 µm 的孔圖案（Q3）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 25-50 µm（Q4）

NanoXSpot微焦點(diǎn) 測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀規(guī)格：

外形尺寸：10 mm x 10 mm 芯片尺寸（帶藍(lán)寶石玻璃蓋的支架：40 毫米 x 30 毫米 x 5 毫米）

材料

襯底：200 μm 厚硅

吸收器：8 μm 高的金
線(xiàn)寬/間距：公差：+/- 15%
圖形線(xiàn)寬 [μm]：4 個(gè)象限，每個(gè)象限 4 mm x 4 mm;2 個(gè)經(jīng)過(guò)改進(jìn)的西門(mén)子星形，具有圓孔和 5 條平行金線(xiàn)，線(xiàn)寬和間距分別為 12 μm、10 μm、8 μm、6 μm、5 μm、4 μm 和 3 μm。最小線(xiàn)寬：3 μm。最小孔徑：5 μm

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請(qǐng)輸入計(jì)算結(jié)果（填寫(xiě)阿拉伯?dāng)?shù)字），如：三加四=7

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微焦點(diǎn)測(cè)試儀

NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線(xiàn)管進(jìn)行質(zhì)量保證，根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

NanoXSpot 測(cè)量?jī)x (NxS)

? 全新測(cè)量?jī)x設(shè)計(jì) NxS-1020 最終確定：

• 使用新開(kāi)發(fā)的算法進(jìn)行焦點(diǎn)測(cè)量和特性分析

• 全新焦點(diǎn) CT 重建算法

? 樣品支架設(shè)計(jì)便于測(cè)量?jī)x使用

? NxS 測(cè)量?jī)x上的圖案組（4 個(gè)象限）：

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 3-12 µm（Q1）

• 會(huì)聚線(xiàn)組圖案（Q2 和 Q3）（類(lèi)似于西門(mén)子星）

• 直徑為 5 µm 至 1 mm 的孔圖案（Q4）

重新設(shè)計(jì)的 NxS-1022b 儀表

? 樣品架設(shè)計(jì)便于使用儀表

? NxS 儀表上的圖案組（4 個(gè)象限）：

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 4-20 µm（Q1）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 63 µm（Q2）

• 直徑為 5 µm 至 1000 µm 的孔圖案（Q3）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 25-50 µm（Q4）

外形尺寸：10 mm x 10 mm 芯片尺寸（帶藍(lán)寶石玻璃蓋的支架：40 毫米 x 30 毫米 x 5 毫米）

材料

襯底：200 μm 厚硅

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NanoXSpot微焦點(diǎn)測(cè)試儀，NanoXSpot焦點(diǎn)測(cè)試儀用于對(duì)光斑尺寸 <100 µm 的 X 射線(xiàn)管進(jìn)行質(zhì)量保證，根據(jù) prEN 12453-6、prEN 12453-7 評(píng)估焦點(diǎn)尺寸 <100 µm 和光斑形狀

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 3-12 µm（Q1）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 4-20 µm（Q1）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 63 µm（Q2）

• 不同方向的線(xiàn)組圖案結(jié)構(gòu)，特征尺寸為 25-50 µm（Q4）