散射校正板質(zhì)控模體

產(chǎn)品型號(hào)：QRM-Beamstop
更新時(shí)間：2025-07-02

簡(jiǎn)要描述：散射校正板質(zhì)控模體Beam Stop Phantom 由嵌入 PMMA 板的鉛圓柱的規(guī)則陣列組成。鉛阻滯劑提供足以防止初級(jí)輻射到達(dá)檢測(cè)器的衰減。Beam Stop Phantom 是一種方便的工具，可用于通過實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線散射與主要比率。

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產(chǎn)品詳情

品牌	德國(guó)QRM	產(chǎn)地	進(jìn)口

散射校正板質(zhì)控模體

Beam Stop Phantom 由嵌入 PMMA 板的鉛圓柱的規(guī)則陣列組成。鉛阻滯劑提供足以防止初級(jí)輻射到達(dá)檢測(cè)器的衰減。Beam Stop Phantom 是一種方便的工具，可用于通過實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線散射與主要比率。

光束停止陣列放置在物體和 X 射線源之間或物體和探測(cè)器之間。

每個(gè)阻滯劑后面的信號(hào)水平的測(cè)量給出了散射強(qiáng)度，而沒有體模的測(cè)量表示總強(qiáng)度（散射和主要信號(hào)）。將兩個(gè)值相除會(huì)得到散射分?jǐn)?shù)。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop光束停止陣列模體

散射校正板質(zhì)控模體

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板原理

散射校正板（Beam Stop Array, BSA）方法是最近幾年提出的一種軟硬件結(jié)合的散射校正方法，以錐束ct的實(shí)際應(yīng)用中取得了良好的效果，受到研究人員的廣泛重視。

為了檢測(cè)到散射射線的強(qiáng)度分布，需要定制一塊散射校正板，校正板是由一個(gè)有機(jī)玻璃板構(gòu)成，有機(jī)玻璃板上均勻分布著同等間隔同等尺寸的氣孔，氣孔由鉛滴填充。將散射校正板平行放置于探測(cè)器前，探測(cè)器上的鉛塊對(duì)應(yīng)的位置上探測(cè)到的光強(qiáng)都是由散射射線產(chǎn)生的，由于散射射線強(qiáng)度空間頻率較低，可以通過對(duì)相應(yīng)的鉛塊點(diǎn)的像素值進(jìn)行二維插值，擴(kuò)展到整個(gè)平面，得到散射強(qiáng)度分布圖，從而是應(yīng)用于進(jìn)一步的散射校正。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板用來估計(jì)X射線的散射分布

錐形束計(jì)算機(jī)斷層掃描

并開發(fā)散射校正技術(shù)

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板由嵌入聚甲基丙烯酸甲酯中的規(guī)則圓柱體陣列組成

(PMMA) 板。在假設(shè)鉛由于阻滯劑提供的衰減長(zhǎng)度足以防止初級(jí)輻射到達(dá)探測(cè)器，因此 QRM-Beamstop 是一種方便的方法，可以通過實(shí)驗(yàn)確定模擬和數(shù)字射線照相的給定測(cè)量設(shè)置的 X 射線散射與初級(jí)比。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板列放置在物體和 X 射線源之間或物體和探測(cè)器之間。

每個(gè)阻滯劑后面的信號(hào)電平的測(cè)量給出了散射強(qiáng)度，而沒有光束停止陣列的測(cè)量表示總強(qiáng)度（散射和主要信號(hào)）。將兩個(gè)值相除會(huì)得到散射分?jǐn)?shù)。

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板尺寸：240mm X 240mm X 6mm
材料：PMMA
鉛圓柱：高度6 mm，直徑3mm,間距20mm;

Beam Stop Phantom,QRM-Beamstop散射校正板尺寸圖：

散射校正板質(zhì)控模體

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